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रासायनिक विज्ञान जर्नल

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Study of SiO2 Etching using Plasma Diagnostics

Abstract

Rami Onkar

Plasma is described as semi-neutral plasma of charged, unbiased particles that exhibits collective behaviour. The distinctive features that distinguish plasma from other release characteristics are applied in many contemporary and research sectors, such as regulating the component particles for specific uses.

अस्वीकृति: इस सारांश का अनुवाद कृत्रिम बुद्धिमत्ता उपकरणों का उपयोग करके किया गया है और इसे अभी तक समीक्षा या सत्यापित नहीं किया गया है।

इस लेख का हिस्सा

जर्नल हाइलाइट्स

में अनुक्रमित

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